在阵列中更改间距和特征尺寸允许您生成更多复杂阵列。
- 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击编辑特征
。
- 在 PropertyManager 中，单击要改变的实例。
- 要为方向 1 添加间距增量，在方向 1 增量下的方向 1 间距增量
中输入值。 值可为正值或负值。如果值为正值，软件会为每个实例累积增加间距。 如果值为负值，阵列中每个实例之间的间距会累积减少。
例如，如果实例之间的间距为 50mm，且您为方向 1 间距增量添加 20mm，则第二个实例与第一个实例相距 70mm，第三个实例与第二个实例相距 90mm，依次类推。
您还可在间距增量 标注中更改间距增量值。
- 要为方向 1 添加特征尺寸，在图形区域单击源特征尺寸。
一个表格会出现在框中。
- 在增量下输入值。 增量会更改“方向 1”中每个实例的尺寸。
您为特征尺寸指定的增量会更改每个实例的大小。
在以下示例中，源特征为切除拉伸。 源特征高度为 8mm，且高度尺寸的增量为 10mm。 后续实例高度会增加至 18mm、28mm、38mm 和 48mm。
- 如有必要，为方向 2 增量重复上述步骤。
- 单击
。