变化的尺寸阵列 在线性和圆周阵列 PropertyManagers 中的变化实例选项允许您更改特征阵列中实例的尺寸和位置。 您可以更改一系列实例的尺寸，从而使各实例大于或小于之前尺寸。 您还可以更改阵列中单个实例的尺寸，并更改该实例相对于阵列源特征的位置。 对于线性阵列，您可以更改阵列中列和行之间的间距。 对于圆周阵列，您可以排列实例，从而使其更接近或更疏远。 仅当您针对阵列实例从图形区域选择特征时此选项才可用。 父主题控制和修改阵列 几何体阵列 源特征 阵列的系统选项 选择要跳过的实例 随形变化 实例数无限制 阵列删除 阵列的阵列 重心 圆周阵列 PropertyManager 线性阵列和线性阵列 PropertyManager 更改间距和特征尺寸 在阵列中更改间距和特征尺寸允许您生成更多复杂阵列。 要更改线性阵列： 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击编辑特征 。 在 PropertyManager 中，单击要改变的实例。 要为方向 1 添加间距增量，在方向 1 增量下的方向 1 间距增量 中输入值。 值可为正值或负值。 如果值为正值，软件会为每个实例累积增加间距。 如果值为负值，阵列中每个实例之间的间距会累积减少。 例如，如果实例之间的间距为 50mm，且您为方向 1 间距增量添加 20mm，则第二个实例与第一个实例相距 70mm，第三个实例与第二个实例相距 90mm，依次类推。 您还可在间距增量 标注中更改间距增量值。 要为方向 1 添加特征尺寸，在图形区域单击源特征尺寸。 一个表格会出现在框中。 在增量下输入值。 增量会更改“方向 1”中每个实例的尺寸。 您为特征尺寸指定的增量会更改每个实例的大小。 在以下示例中，源特征为切除拉伸。 源特征高度为 8mm，且高度尺寸的增量为 10mm。 后续实例高度会增加至 18mm、28mm、38mm 和 48mm。 如有必要，为方向 2 增量重复上述步骤。 单击 。 修改实例 您可修改单个阵列实例。 要修改实例： 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击编辑特征 。 在实例标记上，左键单击并选择已修改的实例。 在图形区域中显示标注并以阵列格式（例如 (5,1)）列出实例。 在标注中键入一个值以覆盖间距和特征尺寸，然后按 Enter 实例标记的大小和颜色会更改以表明实例已修改。 PropertyManager 中已修改的实例框也会列出实例。 单个实例的覆盖值仅保留在实例标注中。 PropertyManager 中变化的实例框中的值仅反映阵列增量。 要编辑覆盖值，左键单击并选择编辑已修改的实例。 移除已修改的实例 您可以使用 PropertyManager 中已修改的实例框移除修改实例并恢复至其初始状态。 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击 编辑特征 。 在 PropertyManager 的 已修改的实例 下，右键单击实例并选择 删除 要移除所有实例覆盖，右键单击已修改的实例框并选择清除选择。 单击 。
变化的尺寸阵列 在线性和圆周阵列 PropertyManagers 中的变化实例选项允许您更改特征阵列中实例的尺寸和位置。 您可以更改一系列实例的尺寸，从而使各实例大于或小于之前尺寸。 您还可以更改阵列中单个实例的尺寸，并更改该实例相对于阵列源特征的位置。 对于线性阵列，您可以更改阵列中列和行之间的间距。 对于圆周阵列，您可以排列实例，从而使其更接近或更疏远。 仅当您针对阵列实例从图形区域选择特征时此选项才可用。 父主题控制和修改阵列 几何体阵列 源特征 阵列的系统选项 选择要跳过的实例 随形变化 实例数无限制 阵列删除 阵列的阵列 重心 圆周阵列 PropertyManager 线性阵列和线性阵列 PropertyManager 更改间距和特征尺寸 在阵列中更改间距和特征尺寸允许您生成更多复杂阵列。 要更改线性阵列： 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击编辑特征 。 在 PropertyManager 中，单击要改变的实例。 要为方向 1 添加间距增量，在方向 1 增量下的方向 1 间距增量 中输入值。 值可为正值或负值。 如果值为正值，软件会为每个实例累积增加间距。 如果值为负值，阵列中每个实例之间的间距会累积减少。 例如，如果实例之间的间距为 50mm，且您为方向 1 间距增量添加 20mm，则第二个实例与第一个实例相距 70mm，第三个实例与第二个实例相距 90mm，依次类推。 您还可在间距增量 标注中更改间距增量值。 要为方向 1 添加特征尺寸，在图形区域单击源特征尺寸。 一个表格会出现在框中。 在增量下输入值。 增量会更改“方向 1”中每个实例的尺寸。 您为特征尺寸指定的增量会更改每个实例的大小。 在以下示例中，源特征为切除拉伸。 源特征高度为 8mm，且高度尺寸的增量为 10mm。 后续实例高度会增加至 18mm、28mm、38mm 和 48mm。 如有必要，为方向 2 增量重复上述步骤。 单击 。 修改实例 您可修改单个阵列实例。 要修改实例： 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击编辑特征 。 在实例标记上，左键单击并选择已修改的实例。 在图形区域中显示标注并以阵列格式（例如 (5,1)）列出实例。 在标注中键入一个值以覆盖间距和特征尺寸，然后按 Enter 实例标记的大小和颜色会更改以表明实例已修改。 PropertyManager 中已修改的实例框也会列出实例。 单个实例的覆盖值仅保留在实例标注中。 PropertyManager 中变化的实例框中的值仅反映阵列增量。 要编辑覆盖值，左键单击并选择编辑已修改的实例。 移除已修改的实例 您可以使用 PropertyManager 中已修改的实例框移除修改实例并恢复至其初始状态。 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击 编辑特征 。 在 PropertyManager 的 已修改的实例 下，右键单击实例并选择 删除 要移除所有实例覆盖，右键单击已修改的实例框并选择清除选择。 单击 。
更改间距和特征尺寸 在阵列中更改间距和特征尺寸允许您生成更多复杂阵列。 要更改线性阵列： 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击编辑特征 。 在 PropertyManager 中，单击要改变的实例。 要为方向 1 添加间距增量，在方向 1 增量下的方向 1 间距增量 中输入值。 值可为正值或负值。 如果值为正值，软件会为每个实例累积增加间距。 如果值为负值，阵列中每个实例之间的间距会累积减少。 例如，如果实例之间的间距为 50mm，且您为方向 1 间距增量添加 20mm，则第二个实例与第一个实例相距 70mm，第三个实例与第二个实例相距 90mm，依次类推。 您还可在间距增量 标注中更改间距增量值。 要为方向 1 添加特征尺寸，在图形区域单击源特征尺寸。 一个表格会出现在框中。 在增量下输入值。 增量会更改“方向 1”中每个实例的尺寸。 您为特征尺寸指定的增量会更改每个实例的大小。 在以下示例中，源特征为切除拉伸。 源特征高度为 8mm，且高度尺寸的增量为 10mm。 后续实例高度会增加至 18mm、28mm、38mm 和 48mm。 如有必要，为方向 2 增量重复上述步骤。 单击 。
修改实例 您可修改单个阵列实例。 要修改实例： 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击编辑特征 。 在实例标记上，左键单击并选择已修改的实例。 在图形区域中显示标注并以阵列格式（例如 (5,1)）列出实例。 在标注中键入一个值以覆盖间距和特征尺寸，然后按 Enter 实例标记的大小和颜色会更改以表明实例已修改。 PropertyManager 中已修改的实例框也会列出实例。 单个实例的覆盖值仅保留在实例标注中。 PropertyManager 中变化的实例框中的值仅反映阵列增量。 要编辑覆盖值，左键单击并选择编辑已修改的实例。
移除已修改的实例 您可以使用 PropertyManager 中已修改的实例框移除修改实例并恢复至其初始状态。 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击 编辑特征 。 在 PropertyManager 的 已修改的实例 下，右键单击实例并选择 删除 要移除所有实例覆盖，右键单击已修改的实例框并选择清除选择。 单击 。