在自上而下装配体设计中，零件的一个或多个特征由装配体中的某项定义，如布局草图或另一零件的几何体。
设计意图来自顶层，即装配体，并下移至零件。 设计意图的示例包括特征尺寸、装配体中的零部件位移并与其他零件接近。
例如，您使用 拉伸命令在塑料零件上生成定位销。 选择 成形到面选项，然后选择电路板的底部，它是另一个零件。 该选择将使定位销长度刚好接触线路板，即使线路板在将来的设计更改中发生移动亦是如此。 销钉的长度在装配体中定义，而不是被零件中的静态尺寸所定义。
方法
您可以使用这些自上而下的方法：
- 单个特征可通过参考装配体中的其他零件而自上而下进行设计，如定位销示例。
在自下而上设计中，零件在单独窗口中建造，此窗口中只可看到零件。 但是，您在装配体窗口中操作时可以编辑零件。 这使其他零部件的几何体可供参考。 要参考的几何体示例包括复本或尺寸。
该方法对于大多是静态但具有与其他装配体零部件交界之特征的零件较有帮助。
- 完整零件可通过自上而下的方法在装配体上下文中创建新零部件进行构建。 您所构建的零部件附加或配合到装配体中的另一现有零部件。 您所构建的零部件的几何体基于现有零部件。
该方法对于像托架和器具之类的零件较有用，它们大多或完全依赖其它零件来定义其形状和大小。
- 整个装配体亦可通过自上而下的设计，首先构建定义零部件位置、关键尺寸等的布局草图。 接着使用以上方法之一构建 3D 零件，这样 3D 零件就遵循草图的大小和位置。
草图的速度和灵活性可让您在构建任何 3D 几何体之前快速尝试数个设计版本。 即使在您建造 3D 几何体后，草图可让您在一中心位置进行大量更改。
考虑事项
- 只要在您使用自上而下技术生成零件或特征时，都将为您所参考的几何体生成外部参考引用。
- 在某些情况下，带有大量关联特征（这构成了自上而下设计的基础）的装配体可能比无关联特征的同一装配体需要更长时间重建。
优化 SOLIDWORKS 以重建更改的零件。
- 在创建关联特征时，请不要生成有冲突的配合，因为此类配合可引起重建时间较长及不可预料的几何体行为。 您一般可通过不为由关联特征所创建的几何体生成配合来避免这些冲突。