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填充阵列 PropertyManager

当您生成填充阵列时，即会出现填充阵列 PropertyManager。

要打开该 PropertyManager：

单击 填充阵列（“特征”工具栏）或 插入 > 阵列/镜向 > 填充阵列

填充边界

pattern_fill_profile.png 填充边界 定义要使用阵列填充的区域。选择草图、面上的平面曲线、面或共有平面的面。如果使用草图作为边界，可能需要选择阵列方向。

阵列布局

确定填充边界内实例的布局阵列。选择可自定义形状进行阵列，或对特征进行阵列。阵列实例以源特征中心呈同轴心分布。
阵列源特征通常位于填充边界面的中心，除非选择了某个顶点或点，将源特征置于要阵列的特征下。
穿孔 为钣金穿孔式阵列生成网格。
实例间距 设定实例中心间的距离。
交错断续角度 设定各实例行之间的交错断续角度，起始点位于阵列方向所用的向量。
边界 设定填充边界与最远端实例之间的边距。可以将边距的值设定为零。
阵列方向 设定方向参考。如果未指定参考，系统将使用最合适的参考（例如，选定区域中最长的线性边线）。
圆形 生成圆周形阵列。
环间距 设定实例环间的距离（使用中心）。
  目标间距 通过使用环间距 设定每个环内实例间距离来填充区域（使用中心）。每个环的实际间距均可能不同，因此各实例会进行均匀调整。清除实例数。
  每环的实例 使用实例数（每环）来填充区域。取消激活实例间距。
实例间距 设定每个环内实例中心间的距离。取消激活实例数。
实例数 设定每环的实例数。
边界 设定填充边界与最远端实例之间的边距。可以将边距的值设定为零。
阵列方向 设定方向参考。如果未指定参考，系统将使用最合适的参考（例如，选定区域中最长的线性边线）。
方形 生成方形阵列。
环间距 设定实例环间的距离（使用中心）。
  目标间距 通过使用实例间距 设定每个环内实例间距离来填充区域（使用中心）。每个环的实际间距均可能不同，因此各实例会进行均匀调整。清除实例数。
  每边的实例 使用实例数（每个方形的每边）填充区域。取消激活实例间距。
实例间距 设定每个环内实例中心间的距离。取消激活实例数。
实例数 设定每个方形每边的实例数。
边界 设定填充边界与最远端实例之间的边距。可以将边距的值设定为零。
阵列方向 设定方向参考。如果未指定参考，系统将使用最合适的参考（例如，选定区域中最长的线性边线）。
多边形 生成多边形阵列。
环间距 设定实例环间的距离（使用中心）。
poly_num.png 多边形边 设定阵列中的边数。
  目标间距 通过使用实例间距 设定每个环内实例间距离来填充区域（使用中心）。每个环的实际间距均可能不同，因此各实例会进行均匀调整。清除实例数。
  每边的实例 使用实例数（每个菱形的每边）填充区域。取消激活实例间距。
实例间距 设定每个环内实例中心间的距离。取消激活实例数。
实例数 设定每个菱形每边的实例数。
边界 设定填充边界与最远端实例之间的边距。可以将边距的值设定为零。
阵列方向 设定方向参考。如果未指定参考，系统将使用最合适的参考（例如，选定区域中最长的线性边线）。

要阵列的特征

确定填充边界内实例的布局阵列。选择可自定义形状进行阵列，或对特征进行阵列。阵列实例以源特征中心呈同轴心分布。
阵列源特征通常位于填充边界面的中心，除非选择了某个顶点或点，将源特征置于要阵列的特征下。
选定的特征 在要阵列的特征 中选择要阵列的特征。
生成源切 为要阵列的源特征自定义切除形状。
反转形状方向 绕在填充边界中所选择的面反转源特征的方向。
圆 生成圆形切割作为源特征。
直径 设定直径。
顶点或草图点 将源特征的中心定位在所选顶点或草图点，并生成以该点为起始点的阵列。如果将此框留空，阵列将位于填充边界面上的中心位置。
方形 生成方形切割作为源特征。
标注尺寸 设定各边的长度。
顶点或草图点 将源特征的中心定位在所选顶点或草图点，并生成以该点为起始点的阵列。如果将此框留空，阵列将位于填充边界面上的中心位置。
dim_ang_a.png 旋转 按此值逆时针旋转每个实例。
菱形 生成菱形切割作为源特征。
标注尺寸 设定各边的长度。
对角 设定对角线的长度。
顶点或草图点 将源特征的中心定位在所选顶点或草图点，并生成以该点为起始点的阵列。如果将此框留空，阵列将位于填充边界面上的中心位置。
dim_ang_a.png 旋转 按此值逆时针旋转每个实例。
多边形 生成多边形切割作为源特征。
poly_num.png 多边形边 设定边数。
外径 根据外径设定大小。
poly_in.png 内径 根据内径设定大小。
顶点或草图点 将源特征的中心定位在所选顶点或草图点，并生成以该点为起始点的阵列。如果将此框留空，阵列将位于填充边界面上的中心位置。
dim_ang_a.png 旋转 按此值逆时针旋转每个实例。

要阵列的面

select_face_planar.png 要阵列的面 选择要阵列的面。各面必须形成一个与填充边界面相接触的闭合实体。

要阵列的实体

要阵列的实体/曲面实体 选取要阵列的实体和曲面实体。

可跳过的实例

可跳过的实例 在图形区域选择可跳过的每个阵列实例。所选实例从阵列中移除。

选项

几何体阵列 使用源特征的完全副本生成阵列。源特征的单个实例将不解出；终止条件及计算会被忽略。几何体阵列选项可以加速阵列的生成及重建。
对于与模型上其他面共用一个面的特征，您不能使用几何体阵列选项。
延伸视象属性 将 SolidWorks 的颜色、纹理和装饰螺纹数据延伸给所有阵列实例。


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