垂直の寸法拘束の定義

エンティティ上の 2 点の間の垂直距離を現在の座標系と相対的に拘束するには、DcVertical コマンドを使用します。

2 個の拘束点を指定して垂直の寸法拘束を定義するには:

1. 拘束 > 寸法の拘束 > 垂直の順にクリックします（または DcVertical と入力します）。
2. エンティティ上の最初の拘束点を指定します。
3. エンティティ上の 2 番目の拘束点を指定します。
4. 2 番目の点が、最初の点を指定したエンティティ上にある必要はありません。
4. 寸法線の位置を指定します。
5. 寸法線が Y 軸と平行に作成されます。
5. 必要に応じて寸法パラメータ値を編集します。
6. Enter キーを押すか、グラフィックス領域をクリックします。

エンティティを指定して垂直の寸法拘束を定義するには:

1. 拘束 > 寸法の拘束 > 垂直の順にクリックします（または DcVertical と入力します）。
2. エンティティ オプションを指定します。
3. エンティティ（直線、線形ポリライン、円弧、楕円弧）を指定します。
4. 寸法線の位置を指定します。
5. 必要に応じて寸法パラメータ値を編集します。
6. Enter キーを押すか、グラフィックス領域をクリックします。

アクセス

コマンド:DcVertical

メニュー:[拘束] > [寸法の拘束] > [垂直]