您可以在平面和非平面曲面上阵列特征并更改每个阵列实例的尺寸和参考。 对于可变更的尺寸的数量并无任何限制。
软件保留了阵列特征的设计目的。 例如，垂直于曲面的拉伸将垂直于每个阵列实例的相应曲面。
对于可变阵列，您可以使用表格存储尺寸及其值。 在表格中，您可以：
- 将电子表格或以制表符分开的源中数据复制粘贴至阵列表格中，反之亦然。
- 使用方程式更改阵列尺寸。 方程式在编写时求解，但不可用于编辑或参考。
| 可用于阵列表格方程式的函数 |
|---|
| + |
加 |
| - |
减 |
| / |
除 |
| * |
乘 |
| ABS(X) |
X 的绝对值 |
| COS(X) |
X 的余弦 |
| EXP(X) |
E 的 X 次方 |
| INT(X) |
X 的整数部分 |
| LOG(X) |
X 的对数底 10 |
| PI |
PI 的值 |
| SIN(X) |
X 的正弦 |
| SQRT(X) |
X 的正平方根 |
| TAN(X) |
X 的正切 |
要创建可变阵列，您需要执行以下操作：
- 至少一个要阵列的特征
- 一个平面或非平面曲面
- 每个特征至少有一个控制尺寸
即使不想更改某个阵列特征，您仍须为该特征选择控制尺寸。
您可以使用参考几何体和草图控制阵列的物理几何形状。 单击要驱动源的参考几何体
，然后在图形区域进行选择。
要在整个非平面曲面阵列某个特征，该特征应该至少包含一个曲面参考。
您可以为以下特征创建可变阵列：
- 拉伸/切除拉伸
- 旋转/切除旋转
- 扫描/切除扫描
- 放样/切除放样
- 填角
- 倒角
- 圆顶
- 草稿