원형 패턴 및 변경할 인스턴스 PropertyManager의 선형 옵션을 사용하면 피처 패턴에서 인스턴스의 치수와 위치를 다양하게 적용할 수 있습니다.
각 인스턴스가 이전 인스턴스보다 크거나 작도록 일련의 인스턴스 치수를 변경할 수 있습니다. 또한 패턴에서 단일 인스턴스의 치수를 변경할 수 있고 패턴의 씨드 피처와 관련된 해당 인스턴스의 위치를 변경할 수도 있습니다.
선형 패턴의 경우 패턴에서 열과 행 사이의 간격을 변경할 수 있습니다. 원형 패턴의 경우 인스턴스가 더 가까워지거나 멀어지도록 정렬할 수 있습니다.
이 옵션은 그래픽 영역에서 패턴 인스턴스의 피처를 선택한 경우에만 사용할 수 있습니다.