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オフセット エンティティの作成(Creating Offsets of Entities)

オフセット(Offset)コマンドを使用して、平行な形状の直線、2D ポリライン、円、円弧、楕円、楕円弧、スプライン、放射線、構築線を作成します。選択されたエンティティのコピーが、元のエンティティから指定された距離で配置されます。元のエンティティは同じ位置に残ります。

オフセットは作図エンティティの種類によって異なります:

  • 直線:同一のコピーを作成し、指定した方向と距離で移動します。
  • 円、円弧、楕円:エンティティの中心を尺度の基点としてコピーを作成しスケールします。元のエンティティよりも小さいまたは大きい半径の、同心円または同心円弧を作成できます。

エンティティのオフセットを作成するには:

  1. 修正(Modify) > オフセット(Offset)をクリック(または「Offset」と入力)します。
  2. ソースエンティティとターゲットエンティティ間のオフセット距離を入力するか、オプションを指定します:
    • 削除(Delete)。エンティティのコピーが配置される際、元のエンティティを削除します。
    • 距離(Distances)。複数のオフセットを作成します。オフセットするエンティティを選択し、オフセットする側をクリックします。最初の距離と2番目の点を指定します。続けてオフセットを追加指定できます。
    • 目的の画層(Destination layer)。エンティティをアクティブな画層にコピーするかソース画層にコピーするかを指定します。
    • 通過点(Through point)。指定した点を通るオフセット エンティティを作成します。
    • ギャップ タイプ(Gap type)。オフセット ポリラインの潜在的なギャップを埋めるギャップ タイプを指定します:
      • 円弧(Arc)。ギャップをフィレットします。フィレット半径はオフセット距離と等しくなります。
      • 面取り(Chamfer)。ギャップを面取りします。各面取りから、ソース線形ポリライン線分上の対応する頂点までの垂直距離は、オフセット距離と等しくなります。
      • 自然(Natural)。線形ポリライン線分を、投影される交差まで延長します。
  3. オフセットするエンティティを選択します。
  4. オフセット(Offset)コマンドを終了せずに前のオフセットを元に戻すには、元に戻す(Undo)オプションを指定します。
  5. さらにオフセットを追加するか、終了(Exit)オプションを指定してコマンドを終了します。

 

 

アクセス

コマンド: オフセット(O)

メニュー: 修正(Modify) > オフセット(Offset)



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